化学镀镍就是在不通电的情况下得到的沉积层,也称无电解镍,常见的还原剂有:次亚磷酸钠、胺基、硼氢化物等;络合剂可与镍形成稳定的络合物以控制可供反应的游离镍量,并防止生成氢氧化物或亚磷酸盐沉淀;稳定剂的加入可阻止镍在胶体粒子或其它微粒上的还原,从而抑制溶液的自发分解;此外常常在槽液中添加少量有机酸来提高沉积速度,乐泰?77124镍基抗咬合剂,以弥补络合剂给沉积速度带来的影响。现代化学镀镍工艺发展很快,镍基抗咬合剂,在溶液中加入适量光亮剂、润湿剂等可获得全光亮的化学镀镍层。
化学镀镍是一种不加外在电流的环境下,行使还原剂在活化零件表面上自催化还原沉积得到镍层,当镍层沉积到活化的零件表面后由于镍具有自催化才气,因此该历程将自动举行下去。普通化学镀镍得到的为合金镀层,多见的是ni-p合金和ni-b合金。化学镀镍有哪些特点呢?以---钠为还原剂时,由于有磷析出,从而发生磷和镍的共蒸镀,因此化学镀镍层为疏散有磷的镍磷合金镀层,loctite lb771镍基抗咬合剂,镀层中磷的品质分数为1%~l5%,从而控制了磷含量以硼化合物或---为还原剂时,常州化学镀镍层为镍硼合金镀层,硼含量为1%~7%。只有以肼为还原剂得到的镀层为纯镍层,镍含量可到达99。5%以上。
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